Bouch REFRACTORY se yon pwodwi materyèl REFRACTORY ki itilize pou gwo tanperati ki fonn metal (tankou asye fonn, fè fonn) oswa ki pa metalik kontwòl koule fonn, anjeneral, enstale nan priz la oswa glisman sistèm bouch nan ekipman métallurgique (tankou louch, konvètisè, Tundish).

Nan endistri a asye modèn, adisyon a nan eleman alyaj se esansyèl nan amelyore pèfòmans nan asye. CHROMIUM, kòm yon eleman alyaj enpòtan, ka siyifikativman amelyore rezistans a korozyon, rezistans mete ak pèfòmans-wo tanperati nan asye. Low-kabòn ferrochrome, ak segondè CHROMIUM ak kabòn ki ba, asire kontni an CHROMIUM ak kontwole kontni an kabòn. Li se yon aditif alyaj efikas pou fondri asye pur, asye alyaj ak asye espesyal.

Ferrosilicon alyaj se sitou ki konpoze de fè ak Silisyòm, ak kontni an Silisyòm se nòmalman ant 15% ak 90%, ki varye selon kondisyon aplikasyon diferan ak espesifikasyon estanda.

Pentoksid vanadyòm se yon oksid vanadyòm ak fòmil chimik V₂O₅. Estrikti flak li yo se yon rezilta nan aranjman kouch li yo cristalline, ki bay zòn sifas segondè, ekselan pwopriyete redox, ak aktivite siyifikatif kataliz.

Vanadyòm pentoksid (V₂O₅) se youn nan katalis ki pi lajman itilize nan pwosesis endistriyèl, patikilyèman nan pwodiksyon asid silfirik ak nan divès reyaksyon oksidasyon. Pwopriyete chimik inik li yo, estabilite, ak kapasite pou fasilite reyaksyon redox fè li yon chwa ekselan pou kataliz. Atik sa a eksplore rezon ki fè yo sèvi ak V₂O₅ kòm yon katalis, mekanis aksyon li yo, aplikasyon li yo nan divès endistri, ak avni kataliz ki baze sou vanadyòm.

Silisyòm metal 553 se yon alyaj Silisyòm-wo pite ki lajman ki itilize nan anpil jaden endistriyèl pou pwopriyete inik fizik ak chimik li yo. Eleman prensipal li se 98.5% Silisyòm, ak yon ti kantite fè ak aliminyòm, ki pèmèt Silisyòm metal 553 kenbe ekselan fòs ak rezistans korozyon nan anviwònman tanperati ki wo. Atik sa a pral eksplore an detay itilizasyon prensipal yo nan metal Silisyòm 553, ki gen ladan alyaj aliminyòm, semi-conducteurs, endistri fotovoltaik, ak endistri chimik.